キヤノンは、メモリー/ロジック等の半導体量産工場において定評のあるKrF半導体露光装置※1「FPA-6300ES6a」の生産性向上オプション“Grade6”を2017年1月より発売する。
急速に普及が進むIoT、ビッグデータ、AIにおいては、取り扱うデータ量が増大するため、大容量のメモリー・センサーなど半導体デバイスの需要がこれまで以上に拡大することが予想される。これに伴い、半導体製造装置には生産性の向上が更に要求されている。
キヤノンでは、KrF半導体露光装置「FPA-6300ES6a」を2012年4月に発売以来、継続的に生産性向上オプションを開発、販売することで装置のアップグレードを行い、市場で高い信頼と評価を得てきた。新たに発売する生産性向上オプション“Grade6”を搭載することで更なる生産性向上のニーズに対応する。
業界最高水準※2の高い生産性を実現
生産性向上オプション“Grade6”は、ステージ速度向上や制御方法の最適化により、露光処理時間を大幅に短縮し、300mmウエハーにおいて、毎時255枚※3という業界最高水準※2の生産性を実現し、CoO※4の低減が求められる半導体メーカーのニーズに応える。また、重ね合わせ精度が求められるプロセスについては、露光装置上でのモード切替え設定のみで対応ができ、さまざまなユーザーのニーズに対応している。
同一プラットフォームで装置のアップグレードを容易に実現
「FPA-6300ES6a」は、発売以来、高い信頼と評価を得ている同一のプラットフォームを継承しているため、市場で稼動している装置へのアップグレードを容易に実施できる。アップグレード作業による装置のダウンタイムを抑え、生産計画への影響を最小限にする。
キヤノンは、今後も「FPA-6300ES6a」に対する更なるアップグレードオプションを提供し続け、生産性向上のニーズに対応していく考え。
※1露光波長が248nm、希ガスのクリプトン(Kr)ガスとハロゲンガスのフッ素(F)ガスを混合して発生させるレーザー光を利用した半導体露光装置。 ※2同等クラスのKrFスキャナーにおいて。2016年12月14日現在。(キヤノン調べ) ※3300mmウエハー、98ショットの条件において、1時間あたりのウエハー露光処理枚数。 ※4半導体製造に関する設備投資や運用に必要なコスト。半導体メーカーの量産ラインにおける工程や製造装置の生産性を示す指標の一つ。 |
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